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磁控濺射鍍膜儀
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  • 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺... 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng),涂有非金屬,主要是氧化物薄膜。非導(dǎo)電薄膜等離...
  • 大功率直流磁控濺射鍍膜... 大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺(tái)式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ,帶有一個(gè)水冷2英寸靶頭,冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。大功率直流...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀 產(chǎn)品簡(jiǎn)介:CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用于制備單層或多...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電...
  • 四英寸四靶靶磁控濺射鍍... 用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長(zhǎng)多層薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、有機(jī)物等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)...
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